第三屆國(guó)際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會(huì)在北理工召開(kāi)
發(fā)布日期：2018-10-11 供稿：光電學(xué)院 攝影：黨委宣傳部 徐思軍
編輯：盛筠 審核：鄒銳 閱讀次數(shù)：
國(guó)際半導(dǎo)體行業(yè)知名企業(yè)美國(guó)KLA-Tencor公司與北京理工大學(xué)共同主辦的第三屆國(guó)際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會(huì)于9月27日在北京理工大學(xué)國(guó)際教育交流大廈召開(kāi)。來(lái)自國(guó)內(nèi)和美國(guó)相關(guān)企業(yè)、科研院所和高校的光刻技術(shù)領(lǐng)域的專(zhuān)家、學(xué)者40多人參加了本次會(huì)議。
會(huì)議由KLA-Tencor公司的高級(jí)主管Patrick Lee先生和北京理工大學(xué)光電學(xué)院李艷秋教授共同主持。北京理工大學(xué)光電學(xué)院副院長(zhǎng)楊亞楠等領(lǐng)導(dǎo)致歡迎辭。Patrick Lee先生、技術(shù)主管Stewart Robertson先生和李艷秋教授團(tuán)隊(duì)李鐵等為大會(huì)作七項(xiàng)報(bào)告。報(bào)告介紹了該公司在DUV和EUV光刻仿真和光刻性能表征控制等領(lǐng)域的最新研發(fā)進(jìn)展。北京理工大學(xué)概述了李艷秋團(tuán)隊(duì)主持并驗(yàn)收的多項(xiàng)國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)課題成果，重點(diǎn)是北理工承擔(dān)的"十三五”國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)課題在14-7nm 節(jié)點(diǎn)DUV 和EUV 先進(jìn)光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)、14-7nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)需要的光刻機(jī)設(shè)備/掩模/工藝與新型計(jì)算光刻的協(xié)同設(shè)計(jì)優(yōu)化技術(shù)等方面取得的先進(jìn)成果。
會(huì)議期間，參會(huì)者進(jìn)行了深入的技術(shù)交流與討論。本屆會(huì)議進(jìn)一步擴(kuò)大了我校在相關(guān)領(lǐng)域的國(guó)內(nèi)外影響，促進(jìn)了企業(yè)與高校科、研院所在該技術(shù)領(lǐng)域的深入合作，持續(xù)推動(dòng)了我校開(kāi)展內(nèi)外的產(chǎn)、學(xué)、研實(shí)質(zhì)性合作及人才培養(yǎng)。
分享到：